Описание:
Пленка графена представляет собой однослойную структуру, синтезированную методом химического осаждения из паровой фазы (CVD). Внешний вид: прозрачная пленка с прозрачностью >97% и покрытием >95%. Толщина мономолекулярного слоя графена составляет 0,345 нм. Пленка демонстрирует подвижность электронов до 2000 см²/В·с на подложке из оксида алюминия (Al₂O₃) и до 4000 см²/В·с на подложке из оксида кремния/кремния (SiO₂/Si). Удельное поверхностное сопротивление на SiO₂/Si: 450±40 Ом/кв. Размер зерен достигает 10 мкм. Подложка: медная фольга толщиной 18 мкм. Продукт предварительно обработан для облегчения удаления нижнего слоя. Мономолекулярный графен на обратной стороне меди частично удален, однако для полного устранения требуется дополнительная обработка (например, ионно-плазменное травление) перед переносом на целевую подложку. Применяется в гибкой электронике, аэрокосмической отрасли, микросистемах и наноэлектромеханических системах (MEMS/NEMS), а также при создании прозрачных проводящих покрытий.
Применение:
Мономолекулярная пленка графена используется в производстве гибких аккумуляторов, электронных устройств, аэрокосмических компонентов, микро- и наноэлектромеханических систем (MEMS/NEMS), микроактюаторов и прозрачных проводящих покрытий. Благодаря уникальным электрофизическим свойствам (высокая подвижность носителей заряда, механическая прочность, гибкость и прозрачность) материал перспективен для создания прозрачных электродов, сенсоров нового поколения и элементов квантовых устройств.