Прекурсоры для осаждения из раствора и паровой фазы
Прекурсоры для осаждения из раствора и паровой фазы
Оксиды и керамика
Оксиды и керамика
Мембраны и материалы для топливных элементов
Мембраны и материалы для топливных элементов
Мембраны и материалы для топливных элементов
Мембраны и материалы для топливных элементов
Мембраны и материалы для топливных элементов
Мембраны и материалы для топливных элементов
Мембраны и материалы для топливных элементов
Прекурсоры для осаждения из раствора и паровой фазы
Прекурсоры для осаждения из раствора и паровой фазы
Тетракис(диметиламидо)цирконий(IV): TDMAZ для CVD/ALD, высокая чистота
Прекурсоры для осаждения из раствора и паровой фазы
Прекурсоры для осаждения из раствора и паровой фазы
Трис(диэтиламидо)(трет-бутилимидо)тантал(V) 169896-41-7 CVD/ALD
Прекурсоры для осаждения из раствора и паровой фазы
Тетракис(диметиламидо)гафний(IV) ЭкстраЧистый для микроэлектроники
Соли высокой чистоты
Соли высокой чистоты
Соли высокой чистоты
Соли высокой чистоты
Оксиды и керамика
Соли высокой чистоты
Оксиды и керамика
Оксид титана(IV) монокристалл рутил, подложка 10х10х0,5 мм ≥99.9%