Триметилалюминий

Описание:

Триметилалюминий (TMA) широко используется как прекурсор в процессе химического осаждения из паровой фазы (CVD) для создания тонких плёнок в различных приложениях. TMA обладает высокой реакционной способностью и пирофорностью, что делает его эффективным источником алюминия в процессах осаждения тонких плёнок для улучшения оптоэлектронных свойств, таких как усиление поглощения света и транспортные характеристики носителей заряда. Это соединение играет ключевую роль в микроэлектронике и нанотехнологиях, где требуется точное управление составом и толщиной плёнки.

Применение:

Триметилалюминий может использоваться: как инициатор роста для синтеза самосборных наночастиц алюминия методом атомно-слоевого осаждения; как прекурсор для синтеза тонких плёнок ZnO, легированных алюминием (AZO), для электронно-транспортного слоя перовскитных солнечных элементов. TMA улучшает электрическую проводимость и тепловую стабильность перовскитных слоев. Для изготовления анодов из сплава Si, покрытых Al2O3, для литий-ионных аккумуляторов. Это покрытие помогает подавить объёмное расширение Si и улучшает стабильность ячейки. Для изготовления графитового электрода, покрытого Al2O3, с превосходным анти-саморазрядным поведением (260 ч) и долгой стабильностью (900 циклов) для алюминиево-ионных аккумуляторов.