Трис(диметиламино)силан 6N для CVD кремния

Описание:

Трис(диметиламино)силан — это химическое соединение, которое используется в полупроводниковой промышленности для производства тонкопленочных покрытий. Это бесцветная жидкость с химической формулой ((CH3)2N)3SiH. Соединение обладает высокой чистотой, достигающей 99.999%, что делает его идеальным для использования в электронной промышленности. Оно известно также как N,N,N’,N’,N»,N»-гексаметилсилантриамин.

Применение:

Трис(диметиламино)силан используется в качестве прекурсора в процессе химического осаждения из газовой фазы (CVD) для нанесения кремниевых покрытий. Он играет ключевую роль в производстве полупроводниковых устройств, таких как микрочипы и интегральные схемы. Высокая чистота соединения позволяет получать покрытия с отличными электрическими и механическими свойствами.