Набор негативного фоторезиста I

Описание:

Набор негативного фоторезиста I от НПО ЭкоТек включает материалы для фотолитографии. Фоторезист предназначен для нанесения методом центрифугирования на стеклянную подложку для формирования электродных матриц. Комплект также обеспечивает маскирование и создание узоров на стеклянной поверхности. Фотолитография — ключевая технология в микроэлектронике и производстве микрофлюидных устройств. Наш фоторезист обеспечивает высокое разрешение и стабильность при экспонировании УФ-светом. Комплект подходит для научных исследований и мелкосерийного производства, гарантируя повторяемость результатов.

Применение:

Набор негативного фоторезиста I от НПО ЭкоТек применяется при изготовлении микроэлектродов методом фотолитографии. Он также используется для создания микрофлюидных устройств на основе капель, микрофлюидных чипов, стеклянных оптических волноводов и интегрированных дифракционных решёток. Технология обеспечивает высокую точность паттернов (до 5 мкм) и устойчивость к агрессивным средам. Подходит для лабораторий нанотехнологий и центров разработки МЭМС. Материалы совместимы со стандартными проявочными процессами и могут использоваться при создании биосенсоров, микрожидкостных систем диагностики и оптических компонентов.