Негативный фоторезист

Описание:

Стабилизированный и очищенный фоторезист, демонстрирующий превосходное разрешение, адгезию, устойчивость к травлению и низкую плотность пиновых отверстий. Идеально подходит для микроэлектроники и производства печатных плат. Негативные фоторезисты широко применяются в фотолитографии для создания точных микросхем и микроустройств. При экспонировании ультрафиолетовым светом они полимеризуются и становятся нерастворимыми, формируя защитный слой для последующего травления. НПО ЭкоТек гарантирует высокую химическую чистоту и стабильность состава, обеспечивая воспроизводимость результатов в высокоточных технологических процессах. Продукт оптимизирован для работы с различными подложками, включая кремний и стекло.

Применение:

Основное применение: фотолитография в микроэлектронике и нанотехнологиях. Используется при производстве интегральных схем, MEMS-устройств, ЖК-дисплеев и печатных плат. Рекомендуется для процессов с высокой разрешающей способностью (до 1 мкм). Технология нанесения: наносится центрифугированием на подготовленную подложку, после чего сушится и экспонируется через фотошаблон. После проявления в специальном растворе формируется рельефное изображение. Позволяет создавать сложные топологии с минимальным браком.