Средство для удаления негативного фоторезиста I

Описание:

Данный продукт доступен в составе набора для негативного фоторезиста (код 654892). Низкий уровень pH обеспечивает эффективное удаление затвердевшего фоторезиста с различных подложек. Состав не вызывает коррозии металлов и оксидов. Не содержит хлорированных углеводородов, хроматов, фенола или фосфатов. Демонстрирует высокую эффективность при комнатной и повышенных температурах. Средство разработано НПО ЭкоТек для использования в микроэлектронике, при производстве печатных плат и оптических элементов. Безопасная формула позволяет применять его в чистых помещениях без риска повреждения чувствительного оборудования. Физические свойства: прозрачная жидкость без запаха с плотностью 1,05-1,15 г/см³. Интересный факт: уникальный состав предотвращает повторное осаждение удалённых частиц резиста на поверхность подложки, обеспечивая идеальную чистоту.

Применение:

Средство предназначено для деликатного удаления негативных фоторезистов после экспонирования и проявки в процессах фотолитографии. Применяется в микроэлектронной промышленности, при производстве печатных плат, MEMS-устройств и оптических компонентов. Рекомендуется наносить методом погружения, распыления или струйной обработки при температуре 20-50°C. Время обработки составляет 3-10 минут в зависимости от толщины резиста и степени затвердевания. Особенно эффективно для удаления резистов на основе эпоксидных смол и полиимидов. После обработки требуется тщательная промывка деионизированной водой.