ТДМАТ-Титан(IV) Прекурсор для MOCVD/ALD 99.999%

Описание:

Тетракис(диметиламидо)титан(IV) — химическое соединение, используемое в качестве прекурсора для получения тонких плёнок нитрида титана (TiN) методом металлоорганического химического осаждения из паровой фазы (MOCVD) и тонких плёнок диоксида титана методом атомно-слоевого осаждения (ALD). Это соединение проявляет высокую реакционную способность и требует особых условий хранения и транспортировки. Для получения информации об оптовых поставках, ценах и вариантах упаковки, обращайтесь в НПО ЭкоТек. Мы гарантируем высокое качество продукции и индивидуальный подход к каждому клиенту.

Применение:

Тетракис(диметиламидо)титан(IV) (TDMAT) является ключевым прекурсором для получения тонких плёнок нитрида титана (TiN) методом металлоорганического химического осаждения из паровой фазы (MOCVD) и диоксида титана методом атомно-слоевого осаждения (ALD). Эти плёнки широко применяются в микроэлектронике для создания диффузионных барьеров, антиотражающих покрытий и изоляционных слоев. TDMAT также вступает в экзотермическую реакцию с избытком циклопентадиена с образованием трис(диметиламидо)(η⁵-циклопентадиенил)титана(IV), что демонстрирует его реакционную способность в синтезе металлоорганических соединений. НПО ЭкоТек поставляет TDMAT высокой чистоты (99,999%) для научных исследований и промышленного применения.