ТЕМАГ 99.99% для ALD HfO₂ | Сверхчистый

Описание:

Тетракис(этилметиламидо)гафний(IV) (ТЕМАГ) — бесцветная жидкость, чувствительная к воде и воздуху. Замерзает при температуре -50 °C, кипит при приблизительно 78 °C и давлении 0,1 Торр. Это соединение представляет собой металлоорганический прекурсор с высокой чистотой (≥99,99%), широко применяемый в процессах атомно-слоевого осаждения (АСО) для создания тонких пленок диэлектриков в микроэлектронике. Благодаря высокой реакционной способности и летучести, ТЕМАГ обеспечивает контролируемое формирование наноструктур. При работе с ним необходимо использовать перчаточный бокс в инертной атмосфере из-за его пирофорных свойств.

Применение:

Тетракис(этилметиламидо)гафний(IV) (ТЕМАГ) служит прекурсором для атомно-слоевого осаждения (АСО) тонких плёнок оксида гафния (HfO₂), обладающего высоким диэлектрическим коэффициентом (16-25). Это критически важно для производства современных полупроводниковых устройств, где HfO₂ заменяет диоксид кремния в транзисторах. Преимущества ТЕМАГ включают низкую температуру кипения и самоограничивающуюся адсорбцию на таких подложках, как стекло, оксид индия-олова (ITO) и кремний (100). Также он используется для создания плёнок на 2D-материалах (например, MoS₂), синтеза сегнетоэлектрического оксида гафния-циркония (HfZrO) и нитрида гафния (Hf₃N₄) при попеременной подаче с аммиаком. НПО ЭкоТек поставляет ТЕМАГ для исследовательских и промышленных применений в нанотехнологиях.