Описание:
Тетраацетат кремния (Si(OCOCH₃)₄) — перспективный прекурсор для золь-гель синтеза диоксида кремния при низких температурах, альтернативный гидриду кремния и алкоксидам. При взаимодействии с этанолом в безводных условиях образует силикагель и этилацетат. Отличается высокой реакционной способностью и контролируемой скоростью гидролиза, что позволяет получать материалы с заданной пористостью. Применяется в нанотехнологиях для создания тонких плёнок SiO₂ методом фотохимического осаждения из паровой фазы. Чистота продукта гарантирует воспроизводимость результатов в исследовательских и промышленных процессах.
Применение:
Тетраацетат кремния используется для получения ультратонких плёнок диоксида кремния методом фотохимического осаждения из паровой фазы. Служит ключевым реагентом в синтезе кремнийорганических комплексов с монофункциональными бидентатными основаниями Шиффа, применяемых в катализе и материаловедении. НПО ЭкоТек рекомендует его для разработки функциональных покрытий в микроэлектронике, оптических сенсорах и керамических мембранах. Продукт обеспечивает высокую чистоту и гомогенность структур благодаря контролируемому гидролизу.