Гидроксид ТМА 10% для нанотравления

Описание:

Гидроксид тетраметиламмония (ТМАГ) — коммерчески доступное четвертичное аммониевое основание, обладающее значительно более высокой основностью по сравнению с гидроксидом аммония. Это бесцветный раствор, широко применяемый в микроэлектронике и органическом синтезе. Благодаря отсутствию ионов металлов, таких как натрий или калий, он не загрязняет полупроводниковые материалы, что делает его незаменимым при производстве интегральных схем. Раствор стабилен при комнатной температуре, но требует осторожного обращения из-за сильных щелочных свойств. Также используется как катализатор в синтезе полимеров и поверхностно-активное вещество.

Применение:

Раствор гидроксида тетраметиламмония (10% масс. в воде) применяется в различных областях: 1) Как реагент для синтеза эпокси-полиэдральных олигомерных силсесквиоксанов (EPOSS) методом золь-гель с использованием 2-(3,4-эпоксициклогексил)этилтриметоксисилана (ECTMS) в изопропаноле. 2) В качестве ионной жидкости для модификации нанокристаллов SnO₂, используемых в качестве эффективного транспортного слоя электронов в перовскитных солнечных элементах. 3) Как анизотропный травитель для кремния благодаря высокой скорости травления; преимущество — отсутствие ионов щелочных металлов, что исключает повреждение электронных схем. НПО ЭкоТек рекомендует использовать данный реактив в нанотехнологиях и производстве фотоэлектрических устройств.