Трис(триметилсилил)фосфин

Трис(триметилсилил)фосфин (P(TMS)₃) применяется как прекурсор для синтеза нанокристаллов фосфида индия (InP) и фосфида индия-галлия (InGaP), которые являются полупроводниками типа III-V. Его также используют для получения хиральных TMS-фосфоланов, которые далее могут применяться в синтезе различных бисфосфолановых лигандов для асимметричного катализа. Трис(триметилсилил)фосфин имеет форму жидкости, с показателем преломления n20/D 1.502 и температурой кипения 243-244 °C. Его плотность составляет 0.863 г/мл при 25 °C. Хранить рекомендуется при температуре 2-8°C. Это соединение активно используется в реакциях типа кросс-сочетания Буквальда-Хартвига. Области применения включают разработку материалов для электроники и катализаторов. Интересный факт: соединения типа III-V, такие как InP и InGaP, широко применяются в создании высокоэффективных солнечных батарей и светодиодов.