ТЕМАГ-ALD HfO₂ | Сверхчистый 5N (99.999%)

Тетракис(этилметиламидо)гафний(IV) (TEMAH) представляет собой бесцветную жидкость, замерзающую при -50 °C и кипящую около 78 °C при 0.1 Торр. Это вещество чувствительно к воздуху и воде. Применяется как прекурсор для атомно-слойного осаждения (ALD) конформных тонких пленок оксида гафния (HfO₂) и оксида гафния-циркония (Hf1-xZrxO₂), которые используются в производстве полупроводниковых устройств благодаря своим высоким диэлектрическим постоянным. TEMAH идеально подходит для ALD благодаря саморегулирующейся адсорбции на различных подложках, включая стекло, индий-оловянный оксид (ITO), Si(100) и двумерные материалы, такие как MoS₂. TEMAH также легко реагирует с водой или озоном как источником кислорода в процессе ALD. Это вещество упаковано в систему для осаждения из нержавеющей стали Swagelok, удобную для подключения к системам ALD. Также используется стальная цилиндрическая емкость, соединенная с шаровым клапаном из нержавеющей стали 316 и соединениями 1/4 дюйма Swagelok VCR. Хранить при температуре 2-8°C.