Тетракис(триметилсилилоксисилан)

Описание:

Тетракис(триметилсилилоксисилан) (ТТМС) — это органосиликоновое соединение, используемое в качестве прекурсора для получения наноструктурированных органосиликоновых полимерных плёнок методом плазменного химического осаждения из газовой фазы (PECVD) при атмосферном давлении. Это соединение также может применяться для синтеза кремний-углерод-кислород-водород (SiCOH) плёнок с низкой диэлектрической проницаемостью. ТТМС обладает уникальными химическими свойствами, которые делают его востребованным в микроэлектронике и нанотехнологиях.

Применение:

Тетракис(триметилсилилоксисилан) используется как прекурсор для создания органосиликоновых полимерных плёнок с наноструктурированной поверхностью. Эти плёнки применяются в микроэлектронике для создания диэлектрических слоёв с низкой диэлектрической проницаемостью. Благодаря использованию метода PECVD, возможно получение плёнок с высокой степенью однородности и контролируемой толщиной.