Пластины для ВЭТСХ, силикагель 60, 25 пластин 10×10 см, стеклянная подложка

Пластины для ВЭТСХ, силикагель 60 WR F₂₅₄s AMD сверхтонкие

Name: Пластины для ВЭТСХ, силикагель 60 WR F₂₅₄s AMD сверхтонкие
SKU: sigma-mm-112363

По запросу

Пластины для высокоэффективной тонкослойной хроматографии (ВЭТСХ) на стеклянной подложке с силикагелем 60 WR F₂₅₄s, сверхтонкий слой для AMD.

Артикул: sigma-mm-112363 Категории: Аналитическая химия, Реактивы для фармацевтики

Описание

Описание:

Пластины для ВЭТСХ (HPTLC) с силикагелем 60 WR F₂₅₄s, сверхтонкий слой, предназначены для автоматического многократного проявления (AMD). Упаковка: 25 стеклянных пластин размером 20 × 10 см, соответствует стандарту DIN 38407-F11. Сверхтонкий слой толщиной всего 100 мкм разработан для особо требовательных применений, таких как автоматическое многократное проявление (AMD). Метод AMD сочетает повторное проявление пластины в одном направлении с воспроизводимым градиентным элюированием, что обеспечивает чрезвычайно узкие зоны и позволяет разделять до 40 компонентов на расстоянии 60 мм. Обозначение WR означает чистый силикагелевый сорбент, устойчивый к водной подвижной фазе. Аналитические характеристики: удельная поверхность (по БЭТ, 5-точечное измерение) 480–540 м²/г, объем пор (по изотерме N₂) 0,74–0,84 мл/г, d50 (лазерная дифракция) 5–7 мкм, толщина слоя 70–120 мкм, отклонение толщины слоя на пластине ≤ 35 мкм.

Применение:

Пластины предназначены для высокоэффективной тонкослойной хроматографии (ВЭТСХ), в частности для автоматического многократного проявления (AMD) в соответствии с DIN 38407-F11. Метод AMD позволяет разделять до 40 компонентов на расстоянии 60 мм.