Гидрат нитрата галлия(III)

Гидрат нитрата галлия(III) используется как один из прекурсоров для получения нанопористых TiO2–Ga2O3 бинарных оксидных пленок и порошков методом золь-гель. Эти наноструктуры находят применение в оптоэлектронных устройствах и газовых сенсорах. Продукт обладает высокой чистотой (99.999%), что делает его идеальным для использования в высокотехнологичных приложениях. Температура плавления составляет 110°C (с разложением).