Оксид гафния(IV)

Описание:

Оксид гафния(IV) (HfO₂) — неорганическое соединение, представляющее собой порошок белого или светло-коричневого цвета. Обладает высокой температурой плавления (около 2800 °C), химической инертностью и диэлектрическими свойствами. Широко применяется в микроэлектронике в качестве высоко-κ диэлектрика для затворов транзисторов, что позволяет уменьшить токи утечки и повысить производительность интегральных схем. Также используется в производстве оптических покрытий, керамических материалов и в ядерной энергетике как поглотитель нейтронов. НПО ЭкоТек гарантирует высокое качество продукта (чистота 98%) с минимальным содержанием примесей.

Применение:

Оксид гафния(IV) (HfO₂) является ключевым материалом в микроэлектронике благодаря своим уникальным диэлектрическим свойствам. Используется в качестве высоко-κ диэлектрика в транзисторах для уменьшения толщины изоляционного слоя без увеличения тока утечки, что критично для создания более компактных и энергоэффективных микросхем. Также применяется в оптике для изготовления просветляющих покрытий линз и зеркал благодаря высокому показателю преломления. В ядерной промышленности оксид гафния(IV) служит поглотителем нейтронов в управляющих стержнях реакторов. НПО ЭкоТек поставляет высокочистый оксид гафния(IV) (98%) с гарантированными характеристиками для ответственных применений.